Le contrôle de la rugosité de surface, de la hauteur des marches et de l'épaisseur des couches minces sur les plaquettes de semi-conducteurs, les lentilles optiques de précision et les composants revêtus détermine directement le rendement de production. Les méthodes traditionnelles de balayage par sonde à contact risquent de rayer les échantillons délicats, tandis que les équipements de mesure optiques classiques ne permettent pas d'atteindre une précision nanométrique. Comment concilier contrôle non destructif, ultra-précision nanométrique et inspection à haut débit pour la production en série ?
Le nouvel interféromètre à lumière blanche industriel de Wavelength OE propose deux modes de mesure interférométriques. Grâce à sa détection sans contact, il couvre l'intégralité du flux de travail, de la R&D en laboratoire au contrôle qualité en production.
Modes d'interférométrie à double cœur pour toute la topographie de surface
Contrairement aux appareils de mesure monomodes, ce système intègre les algorithmes VSI (interférométrie à balayage vertical) et PSI (interférométrie à déphasage), répondant ainsi à deux exigences de mesure essentielles avec une seule machine.
| Élément de comparaison | VSI / CSI | PSI |
|---|---|---|
| Principales surfaces applicables | Surfaces rugueuses, marches, topographies discontinues et complexes | Surfaces ultra-lisses, continues et miroir |
| Plage de mesure de la hauteur verticale | Large plage de mesure ; capable de mesurer des rainures profondes et des marches importantes. | Plage de réglage étroite ; ne convient pas aux grandes marches isolées. |
| Résolution verticale | Niveau nanométrique ; subnanométrique réalisable grâce à des algorithmes optimisés | Résolution maximale ; répétabilité jusqu’au niveau subnanométrique, voire subangström. |
| Tolérance à la rugosité de surface | Haut | Faible |
| Ambiguïté de phase | Quasiment aucun ; sortie de valeur de hauteur absolue disponible | Sous réserve d'une erreur d'enroulement de phase de 2π |
| Vitesse de mesure | Nécessite un balayage axial, relativement lent | Généralement plus rapide |
| Résistance aux vibrations | Sensible aux vibrations pendant la numérisation | Déphasage multi-images, plus sensible aux vibrations |
| Applications typiques | Rugosité, hauteur de marche, microstructures, surfaces usinées | Tests de rugosité, de forme et de planéité de surface ultra-lisse |
PSI (Interférométrie à déphasage) : Spécialisée dans les structures de très petite hauteur à l’échelle nanométrique et les films ultra-minces, offrant une résolution microscopique ultime.
Miroir plan
Miroir courbe (miroir convexe)
Échantillon de motif photolithographique
Interférométrie à balayage vertical VSI : optimisée pour les pièces présentant de grandes variations de hauteur et des décalages importants ; plage de mesure complète disponible sans balayage segmenté.
Réseau de microbilles circulaires sur plaquettes à conditionnement avancé
Réseau de microbilles elliptiques sur plaquettes encapsulées avancées
réseau de microlentilles
Associé à une source de lumière blanche à faible cohérence (450–700 nm), ce composant optique supprime efficacement la lumière parasite due aux réflexions multiples et offre une excellente résistance aux interférences. Doté de revêtements multicouches, il génère des signaux d'interférence stables et nets, garantissant ainsi des mesures précises et fiables.
2. Spécifications de pointe à l'échelle nanométrique, données à long terme traçables et stables
-Le système utilise une source de lumière blanche LED avec une longueur d'onde centrale de 550 nm, dotée de paramètres de performance de base de haut niveau répondant aux normes internationales les plus exigeantes.
Résolution verticale : < 1 nm, erreur de répétabilité : < 10 nm, précision nanométrique réelle
-Plage de mesure verticale maximale : 500 µm, aucun repositionnement répété requis pour les microstructures hautes et basses.
-Vitesse de balayage : 100 µm/s, balayage complet unique effectué en 10 secondes, équilibrant précision et débit d’inspection.
-Conforme aux normes de traçabilité NIST, l'algorithme d'auto-étalonnage intégré garantit des données de lot traçables et cohérentes, répondant aux normes de contrôle qualité strictes des industries des semi-conducteurs et de l'optique.
| Article | Paramètre |
| Capacité de mesure | Topographie de surface 3D, rugosité de surface, hauteur de marche et épaisseur de film des matériaux réfléchissants et des composants optiques |
| Mode d'acquisition de données | Interférométrie à balayage vertical (VSI) + Interférométrie à déphasage (PSI) |
| Système d'étalonnage | Étalon traçable NIST + algorithme d'étalonnage automatique |
| Plage de mesure verticale | 500 μm |
| Champ de vision | Objectif 20× : 0,87 × 0,65 mm |
| Performances de la caméra | Résolution maximale : 2048 × 2448 ; Fréquence d’images : 74 images/s ; Profondeur de bits : 12 bits |
| Vitesse de numérisation | 100 μm/s (Mode de précision) |
| Options de lentilles d'objectif | Objectifs à grossissement configurable 20x / 50x |
| Conception de l'installation | Plateforme d'isolation des vibrations active intégrée, montage horizontal et vertical disponible |
| Dimensions hors tout (L×l×H) | 120 × 80 × 65 cm |
| Poids net | ≤58 kg |
3. Conception d'armoire industrielle intégrée, compatible avec les lignes de laboratoire et de production
Optimisé pour les ateliers de production de masse et les laboratoires de recherche scientifique, avec une compatibilité d'installation flexible.
Plateforme d'isolation des vibrations active intégrée : Mesure stable malgré les vibrations d'usine, aucune table d'isolation des vibrations supplémentaire n'est nécessaire.
Structure de montage double : installation horizontale ou verticale, intégration facile avec les lignes de production automatisées et les postes de travail de laboratoire.
Corps compact tout-en-un : Faible encombrement avec des dimensions de 120×80×65 cm, poids ≤58 kg, déploiement simple sur site.
Le système complet intègre la source lumineuse, l'unité principale de l'interféromètre et le module de commande. Prêt à l'emploi dès le déballage, aucun réglage complexe du trajet optique n'est nécessaire.
Large couverture d'application pour la fabrication de haute précision
Industrie des semi-conducteurs : Inspection topographique 3D et de la hauteur des marches des plaquettes de silicium et des puces micro-nano.
Optique de précision : Tests de rugosité et d’épaisseur de film pour les lentilles optiques, les objectifs et les éléments optiques revêtus.
Nouveaux revêtements fonctionnels : analyse du profil de surface et de l’épaisseur des revêtements réfléchissants et des films minces fonctionnels.
Laboratoires de recherche scientifique : Caractérisation des micro-nanostructures et tests de morphologie de composants de précision.
Forte d'une longue expérience en recherche et développement optique, Wavelength OE conçoit et développe en interne l'ensemble des chemins optiques et algorithmes de mesure pour les interféromètres à lumière blanche. Nous maîtrisons l'intégralité du processus, des sources lumineuses aux systèmes d'étalonnage, en passant par les objectifs. Chaque unité est soumise à un étalonnage de précision en plusieurs étapes avant livraison. Nous assurons un support technique complet après-vente et proposons des solutions de mesure exclusives, adaptées aux dimensions des pièces et aux exigences des lignes de production automatisées de nos clients.
Date de publication : 15 juillet 2026