Objectif métallurgique NIR Plan Apo 50X/0,67 à correction à l'infini pour l'imagerie à travers le silicium et la surveillance des procédés laser à fibre

L'objectif NIR Plan Apo 50X/0.67 est un objectif de microscope apochromatique plan à correction à l'infini de haute qualité, optimisé pour les applications dans le proche infrarouge (NIR). Avec une ouverture numérique (NA) de 0,67 et une distance de travail (WD) de 10 mm, il offre une résolution exceptionnelle (0,5 µm) et une excellente transmission NIR sur la plage visible de 380 à 700 nm, ainsi qu'à la longueur d'onde critique de 1064 nm. Il est ainsi idéal pour l'inspection de la face arrière des plaquettes de silicium, la métrologie des interconnexions traversantes (TSV) et la surveillance en temps réel du traitement laser à fibre.

Caractéristiques principales :

• Grossissement : 50X
• Ouverture numérique (NA) : 0,67
• Distance de travail (DT) : 10 mm
• Distance focale : 4 mm
• Résolution : 0,5 µm
• Profondeur de champ (±DF) : 0,75 µm
• Champ de vision maximal : 0,5 mm
• Poids : 430 g
• Conception optique : correction à l'infini, plan apochromatique (APO)
• Longueur d'onde de fonctionnement : 380–700 nm et 1064 nm
• Milieu d'immersion : Air